首页 >产品中心>
首页 >产品中心>
走进粉磨机械的世界，把握前沿动态资讯
等离子体法广泛应用于制备纳米金属氧化物微粉、非金属氧化物微粉的规模化生产,和其它方法相比具有明显的优势.本文重点介绍了"中俄合资焦作伴侣纳米材料工程有限公司"采用等离子体法制 2022年10月24日 文对等离子体技术制备纳米粉体的研究现状进 行综述，从等离子体技术及分类、不同原料介 图1 等离子体制备纳米粉体原理示意图 Fig.1 Schematic diagram of nano 等离子体技术制备纳米粉体研究现状
了解更多
2020年8月7日 首先，根据电极结构特征对不同的微等离子体反应器进行归纳梳理；其次，列举了几种有代表性的纳米材料合成过程，并阐释了可能的反应机理；最后，立足研究现状展望了该技术的发展趋势和应用前景。 关键词： 微等离子 2001年5月21日 等离子体法广泛应用于制备纳米金属氧化物微粉、非金属氧化物微粉的规模化生产,和其它方法相比具有明显的优势.本文重点介绍了“中俄合资焦作伴侣纳米材料工程有限公 等离子体法制备纳米氧化物微粉
了解更多
2013年5月6日 利用等离子体技术制备纳米材料促成了一系列的工艺革新和巨大的技术进步，特别是在利用高频、直流等离子体方面已完全可以满足工业化的需要，同时微波等离子技术开辟了 2024年2月25日 首页 > 期刊导航 > 中国有色金属学报（英文版） > 2024年2期 > 等离子体技术制备具有亚微米颗粒结构的球化W-Cu伪合金微粉 DOI: 10.1016/S1003-6326(23)66420-9 等离 等离子体技术制备具有亚微米颗粒结构的球化W-Cu伪合金微粉
了解更多
微波等离子体法制备纳米钼粉. 阐述用微波等离子法制备纳米金属钼粉的原理,探讨了此法制备纳米钼粉颗粒的工艺与影响因素,并以羰基钼为原料制得纳米级钼粉,平均粒径小于50nm,还研究了 阐述用微波等离子法制备纳米金属钼粉的原理，探讨了此法制备纳米钼粉颗粒的工艺与影响因素，并以羰基钼为原料制得纳米级钼粉，平均粒径小于50nm，还研究了钼粉在空气中的热稳定 微波等离子体法制备纳米钼粉-Preparation of Nano Mo ...
了解更多
高频等离子法制备球形硅微粉工艺. 中国粉体网9月25日讯 球型 硅微粉 主要用于大规模集成电路封装, 在航空、 航天 、 精细化工、 可擦写光盘 、 大面积电子基板 、 特种陶瓷及日用化妆品等 2003年10月1日 等离子体化学气相合成法制备碳化硅陶瓷粉体的工艺 [发明专利]-在1500-1800 ℃。在等离子体反应器中快速发生分解并利用自由沉降及淬冷条件生成固态SiC微粉。1500-1800℃CH3SiCl3(g)SiC(g)+3HCl(g)生成的SiC 结晶、长大，冷却后经布袋收粉器实现气固分离 ...等离子体化学气相合成法制备碳化硅陶瓷粉体的工艺 [发明专利]
了解更多
等离子体合成又称放电合成，是20世纪70年代才迅速发展起来的一种技术手段。它是利用等离子体特殊性质进行化学合成的一种新技术。等离子体是由电子、原子、分子、自由基、光子等粒子组成的集合体，正负带电粒子的数目相等，体系为 2016年5月5日 王翔等人以不含水分及未经偶联剂处理的角形结晶型硅微粉或熔融型硅微粉为原料，给高频等离子体发生器输入 100 kW 功率，以其 ... 反应炉弧区内时，粉体受热熔化、气化及淬冷，得到球化率高、纯度高、污染少的球状微米级和纳米级 ...物理法制备球形硅微粉工艺技术研究进展 - 技术进展 - 中国粉 ...
了解更多
2019年12月30日 以两种糖类化合物(葡萄糖与水溶性淀粉)为碳源，以SnCl 4.5H 2 O为锡源用一步水热法制备了SnO 2 @C复合物。 使用X射线衍射(XRD)、傅里叶变换红外光谱(FTIR)、N 2 吸脱附法和透射电镜(TEM)表征其组成和微观结构，并采用恒电流充放电测试、循环伏安法(CV)和电化学阻抗谱(EIS)表征其作为锂离子电池负极材料的 ...2023年10月27日 另外，合成的粉体为纳米级的超细粉体，不易收集，同时合成速率较低，目前无法用于生产 大批量的高纯 SiC 粉体。1． 1． 2 等离子体法制备高纯 SiC 粉体 等离子体法是将反应气体通入由射频电源激发的等离子体容器中，气体在高速电子的碰撞下 ...碳化硅（SIC）单晶生长用高纯碳化硅（SIC）粉体的详解 ...
了解更多
2002年11月29日 本发明涉及一种利用等离子体化学气相法工业化制备纳米级碳化硅陶瓷粉体的工艺,本发明工艺利用直流电弧等离子体为热源 ... 1、一种等离子体化学气相合成法制备碳化硅陶瓷粉体的工艺,其特征在于首先向等离子体发生器中通入等离子体 ...2015年2月11日 该法生产的Si 3 N 4 粉末通常为α、β两相混合的粉末．由于氮化时发生粘结使粉体结块，故产物必须经粉碎、研磨后才能成细粉。 为寻求硅粉直接氮化法制备氮化硅微粉的新途径，吴浩成等以NH 3 代替N2作为氮化气氛进行了研究，当 硅粉比表面积大于11. 66 m 2 /g时，氮化率达到99%左右，产品中α-Si3N4 ...氮化硅微粉制备技术研究现状及进展 - 技术进展 - 中国粉体 ...
了解更多
本发明涉及一种利用热等离子法制备球形纳米硅的方法，属于硅冶金及材料制备技术领域。背景技术自20世纪80年代末纳米技术诞生起，人们通过对纳米材料的深入研究，从一个新的层次认识世界。纳米颗粒在电、磁、热、光、敏感特性和表面稳定性方面明显异于通常颗粒，从而具备更广阔的 1 球形硅微粉生产制备工艺 1 ． 1 球形硅微粉的原料 高频等离子法制备球形硅微粉，为避 免赌塞送料管，影响粉料的输送以及在熔 融时产生水汽， 影响熔融效果。原料必须采 用不含水分，未经偶联剂处理的角形结晶 型硅微粉或熔融型硅微粉。高频等离子法制备球形硅微粉的工艺研究 - 百度文库
了解更多
本发明涉及一种直流电弧等离子体制备球形微米和纳米级粉体的装置和方法。该装置的特点是使用寿命长(阴极寿命可达50－100小时,阳极寿命可达50－200小时),电极损耗小,热效率高,可连续运行,粒度可控,单台装置年产量百吨级,实现了微米和纳米级粉体的工业规模化生产,可生产出球形微米和 2014年9月2日 硅微粉（SiO2）是一种无味、无毒、无污染的无机非金属材料。由于其具备高耐温、高绝缘、高介电、高填充量、导热系数低、热膨胀系数低、化学性能稳定、硬度大、耐腐蚀等优越性能而具有广阔的发展前景。硅微粉主要用于大规模集成电路封装，在航空、航天、涂料、油漆、粘结剂、催化剂 ...我国球形硅微粉制备技术研究进展 - 技术进展 - 中国粉体技术 ...
了解更多
2022年12月1日 沉淀法制备的球形硅微粉，其粒径均匀，成本较低，工艺流程简单，易控制，有利于工业化生产，但存在一定的团聚现象[2,3]。韩静香等人以硅酸钠作硅源、氯化铵作沉淀剂制备纳米SiO2。感应等离子制备纳米硅粉的工艺及性能研究感应等离子制备纳米硅粉的工艺及性能研究
了解更多
2020年10月19日 李晓冬等.亚微米球形硅微粉的制备技术研究进展 李勇等.球形硅微粉制备方法与应用研究 陈荣芳等.纳米球形二氧化硅的制备工艺进展 王建军等.球形非晶SiO2的制备及填充性能 王翔等.高频等离子法制备球形硅微粉的工艺研究 （中国粉体网编辑整理/三昧）2003年10月1日 本发明涉及一种利用等离子体化学气相法工业化制备纳米级碳化硅陶瓷粉体的工艺。目前常用的碳化硅粉体制备方法大多普遍采用二氧化硅或硅粉碳热还原法，此法制得的碳化硅粉体经破碎、磨细、酸洗、干燥、筛分等多道工序，最终只能得到微米级碳化硅粉。这种工艺生产碳化硅粉生产成本高，且 ...等离子体化学气相合成法制备碳化硅陶瓷粉体的工艺的制作方法
了解更多
2020年7月1日 等离子体法制得的高纯ZrO2具有独特的性能。等离子体法ZrO2呈球状颗粒，m-ZrO2结晶非常细小。实践证明，在超高温下形成的ZrO2 ... 表1为市售的以中和沉淀法和水解沉淀法制取的Y2O3部分稳定ZrO2 粉末的性能。表1 ZrO2粉末的性能 市场上出售的氧化锆 ...2024年10月15日 碳化硅具有强度大、硬度高、弹性模量大、耐磨性好、导热性强和耐腐蚀性好等优异性能，被广泛地应用于磨料磨具、陶瓷、冶金、半导体、耐火材料等领域。常用的制备碳化硅粉体方法有碳热还原法、机械粉碎法、溶胶–凝胶法、化学气相沉积法和等离子体气相合成法等等。碳化硅的制备及应用最新研究进展 - 汉斯出版社
了解更多
2020年8月14日 李丰研究员首先介绍了硅微粉材料的性能及应用，然后介绍了现有传统的球形硅微粉制备技术：固相法、液相法、气相法等方法，并对火焰熔融喷射法、等离子体加热法、化学水解法进行分析。第二部分李丰研究员介绍了环氧塑封料中的关键材料——硅微粉。2021年9月1日 摘要： 综述典型颗粒球化方法，如高温等离子体熔融法、直流电弧等离子体法、射频感应等离子体法、气体燃烧火焰法等高温法，以及ACM型气流涡旋粉碎球化、HYB型粉碎球化、Faculty S型球化、NETZSCH GYRHO系统球化、融合球化技术等高速气流冲击球化颗粒球化技术及装备的研究现状-中国粉体技术 - University of ...
了解更多
2016年12月1日 双峰粉末的设计是通过反应射频热等离子体从 Ni(OH)2 微粉中合成 Ni 纳米粒子，选择尖峰状的 Ni 微粉作为支撑粉末，然后在微粉表面的口袋中填充纳米粒子。简单的 3-D 湍流混合成功地产生了由微粉表面上分散良好的纳米颗粒组成的球化和平滑的微颗粒。微乳液法制备纳米级超细Ti02 是近年来较流行的方法之一。微乳液是由水、油和表面活性剂组成的热力学稳定体系，其中水被表面活性剂单层包裹形成微水池，分散于油相中，通过控制微水池的尺寸来控制超微颗粒的大小，因为在微水池生成的纳米颗粒的 ...纳米TiO2的制备方法综述_百度文库
了解更多
5 天之前 纳米氮化铝(AlN)具有优良的热导率、电学性能和力学性能，被广泛应用于新一代半导体器件。氮化铝器件的性能表现取决于氮化铝粉体的质量，因此，优质氮化铝粉体的制备是氮化铝行业发展的关键。本文综述了氮化铝的纳米粉体制备及相关应用的研究进展，并讨论了氮化铝的发展 2005年7月4日 综述了目前国内外制备纳米金属钨粉的几种方法。重点介绍并分析了高能球磨法、气体蒸发法、等离子体法、自蔓延高温还原法、氧化钨粉还原法等制备方法优缺点。与传统方法相比, 这些新工艺制备的产品性能更优异, 有很大的发展前景。纳米金属钨粉制备方法的研究进展
了解更多
2021年12月4日 目前液相法合成碳化硅粉体的技术已经较为成熟，利用液相法合成的碳化硅粉体纯度高且为纳米级的微粉 ... （2）等离子体法制备高纯SiC 粉体 等离子体法是将反应气体通入由射频电源激发的等离子体容器中，气体在高速电子的碰撞下相互反应 ...2021年12月13日 中国粉体网讯 纳米技术是近年来科学研究新材料的重要技术，通过纳米技术制得了许多具备优良性能及广泛应用的材料，比如纳米氧化铝。除了具备普通氧化铝高硬度、高强度、耐腐蚀、抗磨损、耐高温、高绝缘性、高抗氧化性等许多优良的特性以外，纳米氧化铝因其特殊的纳米尺寸还具备表面积 ...【原创】 纳米氧化铝的制备工艺研究进展 - 中国粉体网
了解更多
2017年3月13日 王翔等人以不含水分及未经偶联剂处理的角形结晶型硅微粉或熔融型硅微粉为原料，给高频等离子体发生器输入100 kW 功率，以其 ... 反应炉弧区内时，粉体受热熔化、气化及淬冷，得到球化率高、纯度高、污染少的球状微米级和纳米级SiO2 ...2015年8月22日 等离子体法制备过程中温度 较高、物理反应或化学反应的速度快，获得的金属粉 体分布均匀、粒径小，等离子体法制备超细金属粉体 188 气相还原法 气相还原法是一种利用氧化还原反应原理制备 微米级、亚微米级金属粉末的方法，本技术是将具有 一定压力的亚微米级铜粉的制备技术综述 - 豆丁网
了解更多
2009年5月16日 摘要： 本文对用微波等离子体化学气相沉积（ MPCVD ）法制备金刚石膜技术进行了综述，从文章中可以看到，MPCVD 是高速，大面积，高质量制备金刚石膜的首选方法。 并对几种常用的 MPCVD 装置类型进行了阐述，从 MPCVD 装置的结构特点可以看到，用该类型装置在生长 CVD 金刚石膜时显示出独特的优越 ...2019年7月5日 热等离子体法制备纳米氮化物及其表征.doc,北京大学校长基金论文集（2003年） 热等离子体法制备纳米氮化物及其表征 北京大学校长基金研究 结 题 报 告 化学与分子工程学院 受资助人：王 博 2000级 本 科 热等离子体法制备纳米氮化物及其表征 Preparation of 热等离子体法制备纳米氮化物及其表征.doc 13页 - 原创力文档
了解更多
题目：水热法制备纳米陶瓷粉体技术 专业：11级粉体材料科学与工程（1）班 姓名：施学富 学号：1103011002 二O一三年六月 摘要：文章较为系统地概述了水热法制备纳米陶瓷粉体的技术方法、特点和研究进展。认为水热法是一种极有应用前景的纳米陶瓷粉体的
了解更多